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山東力冠微電子裝備

產(chǎn)品展示


PECVD (立式/臥式)

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產(chǎn)品 新聞 下載

PECVD 臥式


? PECVD主要應(yīng)用于氧化硅(SiO?) 和氮化硅(SiN4) 材料的薄膜生長,工作原理是在低壓引入高頻射頻電源,采取電容耦合方式使工藝氣體電離放電,形成等離子體狀態(tài),產(chǎn)生大量的活性基團,這些活性基團在襯底材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并沉積到襯底表面,生長出氧化硅(SiO?) 或氮化硅(SiN4) 薄膜

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